Ós rud é gur ghlac an iPhone an scáileán tadhaill capacitive réamh-mheasta, tá líon mór scéimeanna dearadh struchtúracha tagtha chun cinn i dtréimhse ghearr ama. Is é tréith an scáileáin tadhaill capacitive teilgean ná go bhfuil an braiteoir faoi dhromchla an scáileáin tadhaill agus clúdaithe le gloine cosanta. Glacann roinnt táirgí nua atá á bhforbairt dearadh aon-thaobh, is é sin, déantar na sraitheanna braite go léir a dhearadh ar thaobh amháin d'fhoshraith amháin. Sa dearadh scáileán tadhaill capacitive réamh-mheasta is tanaí seo faoi láthair, úsáideann gach ciseal próiseas sputtering ilchiseal. Bunaithe ar bhunphrionsabal an scáileáin tadhaill capacitive réamh-mheasta le dhá shraith seoltaí trédhearcacha, is féidir athruithe éagsúla a dhéanamh ar an dearadh. Mar shampla, is féidir sraith áirithe a chur in ionad sreanga ultra-fíneáil (10 ^ ni), rud a laghdóidh sputtering ciseal ITO. Faoi láthair, tá an chuid is mó de na fóin phóca agus na boird bailithe sínithe ar an margadh brataithe le ITO ar shraitheanna éagsúla PET. Ina theannta sin, úsáideann scáileáin tadhaill coitianta freisin sciath dhá thaobh nó gloine brataithe ITO aon-thaobh ar fhoshraith dhá chiseal.
(1) Patrún scannáin
Sa scáileán tadhaill capacitive réamh-mheasta, is féidir an scannán ITO a dhearadh agus a eitseáilte ar bhealaí éagsúla, ach tá an costas déantúsaíochta mar an gcéanna, agus mar gheall ar an ard-chomhghaol idir an braiteoir tadhaill agus an córas rialaithe leictreonach, tá sé deacair a rá. cén patrún atá níos fearr ná patrúin eile.
Is é an patrún a úsáidtear i scáileán tadhaill capacitive réamh-mheasta an iPhone go luath an ceann is simplí: tá an ITO ar an dá thaobh den ghloine eitseáilte i 10 gcolún le leithead líne lram agus spásáil 5mm ar an tosaigh, agus tá an cúl eitseáilte isteach i 15 sraitheanna, le leithead líne de 5mm agus spásáil de 37. Sa chiseal socrú sraitheanna de ^m, cuirtear na stiallacha neamhcheangailte (aonair) in áirithe idir na 10 gcolún den chiseal socrú colún chun éifeacht optúil aonfhoirmeach a choinneáil. Éilíonn dearadh den chineál seo teicneolaíocht shimplí, ach éilíonn sé cumhacht próiseála láidir an rialaitheora chun comhordanáidí beachta a ghiniúint.
Is é an patrún is coitianta ná diamant comhghlasála (tá sé suite go trasnánach 45 céim). Tá na hoileáin leictreoid den phhatrún seo ceangailte go hiontaofa (an nasc is giorra), agus úsáidtear limistéar an scáileáin ar an méid is mó chun toilleas finger a bhrath. Tá an patrún Diamond roinnte ina chomhlántach Tá dhá shraith, is é ceann amháin sraitheanna cothrománacha Diamond-chruthach, is colúin ingearach-chruthach é an ceann eile, agus tá trasnú sreang cosúil le droichid bheaga. Braitheann méid an oileáin Diamond-chruthach ar an monaróir, de ghnáth idir 4 agus 8mm. Faoi láthair, úsáideann an chuid is mó de scáileáin tadhaill capacitive réamh-mheasta patrún cruth Diamond.
(2) Is gnách go bpróiseáiltear friotaíocht cearnach seoltóir an scáileáin tadhaill le 15011/port (aonad: n/(m2 * mil)) gloine brataithe ITO. Chun patrún a fhoirmiú le leithead líne 20pm, ní mór é a chomhlánú le teicneolaíocht photoetching, mar shampla i monarchana painéil LCD. An gníomhaire ablation photolithography a úsáidtear sa phróiseas. Dá tiubh an ITO, dá lú an fhriotaíocht, is amhlaidh is fearr an cóimheas comhartha-go-torann, ach tá an tarchur solais bocht; a mhalairt ar fad, dá tanaí an ITO, is amhlaidh is fearr an tarchur solais, ach tá an cóimheas comhartha-go-torann níos measa. Nuair a úsáidtear PET (plaisteach trédhearcach, go príomha le haghaidh táirgeadh buidéil uisce mianraí) mar an tsubstráit, is gnách go bhfuil an leithead líne 100 ~ 200 jim. Is féidir priontáil scáileáin, eitseáil grianghraf nó gearradh léasair a úsáid chun leithead líne 30 ~ 5 (Vm) a dhéanamh ar PET. Tá próiseas an phhatrún fós faoi staidéar. In iarratais phraiticiúla, tá tríú ciseal IT0 ag bun mar chiseal sciath chun cur isteach an LCD a leithlisiú. Is gnách go n-úsáideann an ciseal sciath friotaíocht cearnach de 150 ~ 300fi/□. Is gnách go bhfuil an líne comhartha ar fhráma an scáileáin tadhaill déanta as ábhar moluibdín / alúmanam / moluibdín, a phlátáiltear freisin tar éis sputtering ITO ag baint úsáide as próiseas sputtering magnetron bhfolús.
